В России создана технология многолучевой литографии, которая увеличит производительность при выпуске чипов примерно в 3000 раз

Дата публикации: 05-08-2026 10:33:00

Основное содержимое страницы с новостью.

Российские ученые разработали технологию производства отечественного многолучевого литографа. Он будет в тысячи раз производительнее обычного однолучевого и дешевле импортного многолучевого. Его можно будет применять для выпуска передовых микросхем по топологии в несколько нанометров. Главное, чтобы, пока в России начнется выпуск таких установок, мировые технологии не успели уйти слишком далеко вперед.

Российский литограф для передовой электроники

Ученые в России при поддержке НТИ завершили научно-исследовательские работы для создания многолучевого электронного литографа, выяснили «Известия».

В традиционных электронных литографах используется один луч. Испытанная российской командой технология мультикатод формирует из одного источника сразу множество электронных лучей, что значительно ускоряет процесс экспонирования кремниевой пластины (нанесение рисунка на ее поверхность).

Уже создан проект устройства. На следующем этапе будут проведены опытно-конструкторские работы. Примерно через три года может появиться первый опытный образец литографа, с помощью которого можно будет производить микросхемы с различными технологическими нормами — от 350 нм до самых передовых в несколько нанометров.

Пять минут вместо двух недель

Литограф с мультикатодом будет способен экспонировать кремниевую пластину за пять–семь минут вместо полутора-двух недель, как при использовании одного луча, что примерно в 3 тыс. раз быстрее, рассказали разработчики.

«Мы разработали сквозную технологию создания мультикатода и подтвердили ее работоспособность на практике. Нам удалось получить массивы источников электронных пучков с радиусом закругления вершины всего 1,5–2 нм — это один из лучших результатов в мире», — отметил главный разработчик проекта Евгений Гиваргизов.

Разработка будет имеет преимущество и перед иностранными многолучевыми аналогами. Оно, по словам Гиваргизова, заключается в способе формирования самих электронных источников. Зарубежные системы используют сложные схемы расщепления луча с большим количеством зеркал и оптических затворов, а российская создает сразу множество независимых источников электронов на единой подложке. Это существенно снижает требования к инженерной инфраструктуре и энергопотреблению, а также стоимость оборудования.

При этом установка сможет работать с топологией в несколько нанометров, так как предельное разрешение сегодня определяется прежде всего характеристиками применяемых фоторезистов, а не возможностями самого источника электронного пучка, пояснила команда проекта.

Вызов доминированию

Самые передовые литографы нидерландской ASML, лидера мирового рынка, работают с экстремальным ультрафиолетом (EUV) и участвуют в производстве чипов с топологией 5 нм и тоньше. Также у нее есть литографы для глубокого ультрафиолета (DUV), это предпоследнее поколение такого рода устройств для более старых техпроцессов. Его аналог, несмотря на санкции, создали в Китае, как писал CNews в июле 2026 г.

В случае успешной реализации проект создания российского многолучевого литографа способен сократить зависимость российской микроэлектроники от зарубежного литографического оборудования и расширить возможности серийного выпуска чипов, в которых сейчас так нуждается индустрия, сказал специалист инженерно-технической экспертизы Сергей Варнавский.

Однако, по его мнению, существует риск того, что, пока отечественная разработка получит финансирование и пройдет все этапы, она уже будет уступать зарубежным конкурентам. Мировые технологии к тому времени могут уйти далеко вперед.

• Школа Роста CNews — короткие онлайн-программы по востребованным ИТ-компетенциям

Схожие новости

#	Наименование новости	Тональность	Информативность	Дата публикации
1	В России создана технология многолучевой литографии, которая увеличит производительность при выпуске чипов примерно в 3000 раз	0	8.77	05-08-2026
2	В России создали суверенную установку электронно-лучевой литографии для выпуска чипов	5	7	20-07-2026
3	В России создали литограф для 150-нанометровых чипов	5	7	20-07-2026
4	В России создали суверенную установку электронно-лучевой литографии для выпуска чипов	0	7	20-07-2026
5	В России разработали технологию создания транзисторов из дисульфида молибдена	0	6.57	01-08-2026
6	В России создали новую технологию изготовления порошков для микросхем	0	0	27-06-2025
7	Новый способ копчения позволит рыбному комбинату в ЯНАО повысить производительность на 30%	0	0	25-12-2020
8	В России создали технологию для борьбы с обледенением БПЛА	0	0	16-09-2025
9	В РФ создали технологию производства импортируемого вещества для нефтедобычи	0	0	04-12-2025

Классификация: Наука. Схожих патентов: 0. Схожих новостей: 9. Тональность: 0. Информативность: 14.65. Источник: cnews.ru.