Первый экземпляры оборудования планируют поставить крупным китайским производителям микросхем в 2026 году. Это позволит им снизить зависимость от иностранных технологий.

• Производство установок для иммерсионной литографии в глубоком ультрафиолете (DUV) запустила неназванная государственная компания в Шанхае, рассказали источники The Information.
• Иммерсионная DUV-литография — это метод «печати» микросхем с помощью лазера. Технология позволяет создавать элементы по технологии 28 нм за одну итерацию, но при многократной печати можно выпускать чипы до 7 нм, отмечает Tom's Hardware.
• Проект реализуют силами нескольких команд китайских разработчиков, пояснили собеседники The Information. В их числе они упомянули поддерживаемый государством стартап Shanghai Yuliangsheng Technology. Других участников не назвали.
• Большинство компонентов в установках китайского производства, но некоторые критически важные детали по-прежнему закупают в Японии, говорят источники.
• По данным издания, китайский производитель чипов SMIC тестировал оборудование от Shanghai Yuliangsheng с 2025 года. Первые серийные образцы планируют начать поставлять местным производителям микросхем в 2026-м. А к 2027-му рассчитывают выпустить около 20 установок.
• Ведущий мировой производитель литографических систем, голландская ASML, планирует выпустить порядка 130 установок в 2026 году. В 2027-м компания собирается «нарастить мощности на 30%». Сейчас она занимает больше 90% рынка.
• По данным The Information, китайские установки пока уступают системам ASML по качеству и производительности. Кроме того, их настройка для серийного выпуска чипов может занять до нескольких месяцев.

Китай разработал прототип фотолитографического станка для производства передовых чипов — Reuters