Первый российский серийный литограф для производства 350-нм чипов поставят в декабре 2026 года

Дата публикации: 13-09-2026 06:10:06

Изображение сгенерировано нейросетью
Первая российская литографическая установка для производства чипов по технологии 350 нм должна быть сдана заказчику в самом конце 2026 года. Первый экземпляр литографа будет отгружен интегрированной в холдинг «Швабе» компании «Маппер», а второй экземпляр установки достанется фирме «Отраслевые решения» из ГК «Элемент». Читать дальше →

Схожие новости

#	Наименование новости	Тональность	Информативность	Дата публикации
1	Раскрыт покупатель первого российского серийного литографа. Поставка до конца 2026 года	0	16.75	11-09-2026
2	Раскрыт покупатель первого российского серийного литографа. Поставка до конца 2026 года	0	16.75	11-09-2026
3	Мантуров: Россия в перспективе может создать литограф на 28 нм и ниже	0	0	22-09-2025
4	The Information: Китай начал серийное производство установок для иммерсионной литографии, которые позволяют выпускать чипы по техпроцессу до 7 нм	0	16.21	28-07-2026
5	В России создали суверенную установку электронно-лучевой литографии для выпуска чипов	0	7	20-07-2026
6	В России создали суверенную установку электронно-лучевой литографии для выпуска чипов	0	7	20-07-2026
7	В России создана установка проекционного переноса изображений для производства чипов с проектными нормами 130 нм.	0	12.41	12-08-2026
8	Создан опытный образец самого передового в России литографа для производства чипов	0	9.84	12-08-2026
9	Российский стартап разработал проект многолучевого электронного литографа для производства современных микросхем	0	10.91	05-08-2026
10	В России создана технология многолучевой литографии, которая увеличит производительность при выпуске чипов примерно в 3000 раз	0	8.77	05-08-2026

Классификация: . Схожих патентов: 0. Схожих новостей: 10. Тональность: 0. Информативность: 11.44. Источник: www.techcult.ru.