Китай продолжает сокращать зависимость от зарубежного оборудования для производства микросхем, однако его собственные литографические системы все еще заметно уступают разработкам нидерландской ASML. Как отмечает Asia Times, отечественные установки глубокой ультрафиолетовой литографии (DUV) отстают примерно на четыре поколения, что ограничивает возможности китайских производителей по выпуску самых современных полупроводников. При этом эксперты подчёркивают, что даже такой уровень развития является важным шагом к технологической независимости страны.Источник изображения: ChatGPTОтставание объясняется не только сложностью самой технологии, но и необходимостью создания целой экосистемы высокоточных компонентов – от оптики и лазеров до систем управления и специализированного программного обеспечения. Несмотря на это, китайские компании уже начали ограниченное производство собственных иммерсионных DUV-установок, которые в ближайшее время должны поступить крупнейшим местным производителям микросхем.

Однако аналитики предупреждают, что запуск производства является лишь первым этапом: оборудованию еще предстоит пройти длительную проверку на надежность и стабильность работы в условиях массового выпуска чипов.

В то же время ASML сохраняет значительное технологическое преимущество. Компания остается единственным в мире поставщиком промышленных EUV-литографов, необходимых для производства самых передовых процессоров. Даже если Китай успешно освоит выпуск собственных DUV-систем, путь к созданию конкурентоспособных EUV-машин может занять еще многие годы. Тем не менее продолжающиеся экспортные ограничения со стороны США и их союзников стимулируют Пекин ускорять инвестиции в собственную полупроводниковую отрасль, что постепенно меняет расстановку сил на мировом рынке оборудования для производства чипов.